晶硅太陽(yáng)能電池表面鈍化用高產(chǎn)出原子層沉積系統(tǒng)
ALD for surface passivation of c-Si solar cells
應(yīng)用:
1.CIGS太陽(yáng)能電池?zé)o鎘緩沖層沉積
2.晶硅太陽(yáng)能電池表面鈍化層沉積
3.大規(guī)模生產(chǎn)的應(yīng)用
4.工業(yè)全自動(dòng)生產(chǎn)設(shè)備
5.高產(chǎn)量:高達(dá)4500晶片/小時(shí)(156 X 156 m㎡)
特征:
1.良好的厚度&均勻性好的Al2O3薄膜
2.用于短氣體循環(huán)時(shí)間的先進(jìn)工藝套件和小體積
3.具體化的ALD機(jī)械裝置
4.全集成工藝模塊
5.操作過(guò)程簡(jiǎn)單
6.自動(dòng)式操作

