以顆粒狀的干冰作為清洗介質(zhì),通過壓縮空氣將干冰微粒高速噴向清洗物表面,使清洗物表面的污垢冷凍至脆化并爆裂,干冰微粒通過撞擊作用滲透到污垢及基層材料之間,隨即升華,體積瞬時增大800倍,迫使污垢與基層材料脫離,達到清洗的目的。
| 單噴頭干冰清洗工作圖 | |
| 單噴頭干冰清洗速度壓力仿真 | 干冰清洗原理示意圖 |
| 類 | 序號 | 清洗方法 | 異物粒子祛除 | 膜層祛除 | 對物件的損傷 | 干燥工序 | 環(huán)境污染 | 難題 |
| 濕法 | 1 | 純水 | 一般 | 較差 | 一般 | 要 | 差 | 水膜再著附，金屬元素殘留 |
| 2 | 有機溶劑 | 一般 | 較好 | 較大 | 要 | 大 | 有機溶劑再著附，溶劑后處理 | |
| 干法 | 3 | 納米干冰 | 很好 | 易 | 較低 | 無 | 無 | 清洗面積較小 |
| 4 | 超聲波 | 一般 | 難 | 一般 | 無 | 無 | 固體異物，微細顆粒難除凈 | |
| 5 | 空氣 | 一般 | 難 | 一般 | 無 | 無 | 固體異物，微細顆粒難除凈 | |
| 6 | 大氣等離子 | 易 | 一般 | 較大 | 無 | 無 | 清洗能力較差 |
| 型號 | 半導體清洗機WMGB01 |
| 外形尺寸 | 450×500×300 |
| 重量 | 20Kg |
| 電源 | 220V 50Hz 單相 |
| 功率 | 2kW |
| CO2噴射系統(tǒng) | |
| CO2 | 液態(tài) |
| CO2壓力 | ≥5.5MPa |
| 噴嘴規(guī)格 | 0.1mm~4mm |
| CO2消耗量 | 50~200g/min |
| CO2恒溫系統(tǒng) | |
| 介質(zhì) | - |
| 容量 | - |
| 溫度調(diào)節(jié)范圍 | - |
| CO2增壓系統(tǒng) | |
| 驅(qū)動介質(zhì) | - |
| 驅(qū)動氣壓 | - |
| 增壓比 | - |
| 增壓量 | - |
| CDA輔助系統(tǒng) | |
| CDA氣體 | 壓縮空氣/氮氣 |
| CDA壓力 | 0.1~0.8MPa |
| CDA溫度調(diào)節(jié) | 選配 |
| 項目 | 外觀 | 孔內(nèi)清洗效果 （EDX檢測殘渣） | 孔內(nèi)清洗效果 （鋁層厚度，SEM檢測鋁層） | 效果 |
| 干冰清洗前 | 表面泛白 | 孔內(nèi)有殘渣 | 鋁層4.5um | —————— |
| 干冰清洗后 | 表面干凈 | 孔內(nèi)無殘渣 | 鋁層4.3um | ①清洗效果理想 ②對鋁層無腐蝕 ③結(jié)合力：5.2N/cm |
| 高壓水槍清洗后 | 表面干凈 | 孔內(nèi)有銅屑 | 鋁層4.5um | ①清洗效果理想 ②孔內(nèi)有銅屑 ③結(jié)合力：4.5N/cm |
| 項目 | 孔內(nèi)清洗效果（EDX檢測殘渣） | ||
| 干冰清洗前 | 1 | 2 | 3 |
| 干冰清洗后 | 1 | 2 | 3 |
| 高壓水槍清洗后 | 1 | 2 | 3 |
